中国中微公司三季度净利润同比增超两成，受刻蚀、薄膜等设备收入增长驱动

中国龙头半导体设备制造商--中微公司 688012周三公布，三季度营收同比增约五成，净利润增速超两成，受刻蚀、薄膜等设备收入增长驱动，但部分被公司显著加大的研发力度拖累。

中微公司在上交所刊登的财报显示，三季度实现营收约31亿元人民币，同比增长50.6%；净利润5.1亿元，同比增长27.5%。

前三季度，公司营业收入为80.6亿元，同比增长约46.4%。其中刻蚀设备收入61亿元，同比增长约38.3%；LPCVD和ALD等薄膜设备收入4亿元，同比增长约1,332.7%。

中微公司指出，根据市场需求，公司显著加大研发力度，前三季度研发支出25.2亿元，较去年同期增长约63.4%。公司目前在研项目涵盖六类设备，超二十款新设备的开发。

“针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺实现大规模量产，”中微公司称。

中国正在打造一条自主可控的半导体产业链。科技部部长此前表示，“十五五”期间要加快高水平科技自立自强，加强原始创新和关键核心技术攻关，全链条推动集成电路等重点领域关键核心技术攻关取得“决定性”突破。

中微公司在9月稍早推出了包括等离子体刻蚀、原子层沉积及外延等关键工艺在内的六款半导体设备新品。公司指出，这将进一步满足客户需求，拓展公司产品布局，为加速向高端设备平台化公司转型注入新动能。

中微公司周三小幅收升0.4%，今年迄今累涨超五成。（完）